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一种温控陶瓷的加工方法

关注:820发表时间:2017-10-16 14:17:10

本发明涉及一种温控陶瓷的加工方法,按重量计由以下原料制备而成:氢氧化铝13-16份、多晶硅21-26份、氧化铁33-42份、天青石35-42份、石墨12-15份、铟15-17份;本发明的温控陶瓷在1225-1260℃间为导体,超出此温度范围为绝缘体,通过将温控陶瓷连接在加热电路中实现控温,控温精度达到±0.001℃。



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